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SiO2@ZIF-67/MoS2及其煅烧产物的低温吸附性能

孙红梅,牛沭文,米国梁,王晨阳,赵羿伟,吴 燕,彭 啸

摘 要:利用水热反应法制备SiO2@ZIF-67/MoS2,再经由煅烧处理得到其煅烧产物.通过氮气吸附脱附、热重、FTIR、XRD 以及粒径分布等表征SiO2@ZIF-67/MoS2及其煅烧产物的结构特征,研究其在低温环境下(5 ℃)对甲基橙溶液的吸附性能.结果表明:SiO2@ZIF-67 的最佳掺杂量为0.030 0 g,为SiO2@ZIF-67/MoS2总质量的8%.SiO2@ZIF-67/MoS2及其煅烧产物在低温环境下吸附甲基橙的最大饱和吸附量分别为104 mg/g、311 mg/g,分别是活性炭的1.39 倍和4.15倍,且吸附过程与Freundlich 等温吸附模型拟合良好.SiO2@ZIF-67/MoS2及其煅烧产物是一种有潜在应用价值的低温吸附材料.




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